半导体与微纳制造

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解读 Shintake 2025 年 arXiv 论文：用两级等曲率凹-凸镜对搭建同轴四镜投影器，把数值孔径推到 0.5/0.7（Hyper-NA），让掩模与晶圆在曝光时都保持静止，从光学根因上缓解 EUV 光刻的掩模 3D 效应。

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介绍 KLayout 的 PCell（参数化单元）：为什么需要它、GDS 文件里如何存储、怎么用 Python 写一个 PCell，以及 Basic 库、SiEPIC-Tools 与 gdsfactory 中的实际用法。

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介绍浸没式光刻机：从 CD=k1·λ/NA 与 NA=n·sinθ 出发，说明 193 nm 浸没式光刻如何用超纯水把数值孔径推过 1，以及景深、水纯度、气泡与偏振等工程代价。

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从成像低通滤波与光刻胶阈值响应出发，解释为什么硅片上的图形与 GDS 版图不一致，以及 OPC 如何用规则表与迭代仿真做反向补偿。

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从弦高误差出发，解释GDS曲线的多边形离散、顶点数计算、网格舍入与fracture，并给出可复现的KLayout工作流。

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解析GDS图纸中90度拐角在光子芯片中的衍射效应，及Python优化技巧。

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抛弃掩模版，直接利用光的干涉在微观世界“结网”。本文从波动方程出发，深度解析全息曝光的数学原理、多光束干涉模型及其在AR眼镜与光子芯片中的核心应用。

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当数值孔径(NA)超过0.85时，传统的标量衍射理论失效。本文深度解析光刻中的“矢量效应”，探讨TE/TM偏振对成像对比度的决定性影响，以及浸没式光刻中的偏振照明工程（SMO）。

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阅读正文，了解原理、方法与适用条件。

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