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文献解读 | High-NA EUV 光刻的同轴四镜投影器：一种消除掩模 3D 效应的方案（arXiv 2025）
解读 Shintake 2025 年 arXiv 论文：用两级等曲率凹-凸镜对搭建同轴四镜投影器，把数值孔径推到 0.5/0.7（Hyper-NA），让掩模与晶圆在曝光时都保持静止，从光学根因上缓解 EUV 光刻的掩模 3D 效应。
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