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版图画的是矩形，硅片上为什么变圆角？光刻光学邻近效应与 OPC 修正
从成像低通滤波与光刻胶阈值响应出发，解释为什么硅片上的图形与 GDS 版图不一致，以及 OPC 如何用规则表与迭代仿真做反向补偿。
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矢量光学的胜利：偏振光在纳米光刻中的物理原理与工程应用
当数值孔径(NA)超过0.85时，传统的标量衍射理论失效。本文深度解析光刻中的“矢量效应”，探讨TE/TM偏振对成像对比度的决定性影响，以及浸没式光刻中的偏振照明工程（SMO）。
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