版图画的是矩形,硅片上为什么变圆角?光刻光学邻近效应与 OPC 修正
从成像低通滤波与光刻胶阈值响应出发,解释为什么硅片上的图形与 GDS 版图不一致,以及 OPC 如何用规则表与迭代仿真做反向补偿。
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THE JOURNAL
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从成像低通滤波与光刻胶阈值响应出发,解释为什么硅片上的图形与 GDS 版图不一致,以及 OPC 如何用规则表与迭代仿真做反向补偿。