TIME FRAME / 半导体与微纳制造 半导体与微纳制造2026.08.06 浸没式光刻机介绍 介绍浸没式光刻机:从 CD=k1·λ/NA 与 NA=n·sinθ 出发,说明 193 nm 浸没式光刻如何用超纯水把数值孔径推过 1,以及景深、水纯度、气泡与偏振等工程代价。 约 8 分钟阅读阅读文章 ↗